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国家知识产权局信息显示,玄武石半导体(武汉)有限公司取得一项名为“一种基于带隙基准核心的预稳压电路”的专利,授权公告号CN118466660B,申请日期为2024年5月。
天眼查资料显示,玄武石半导体(武汉)有限公司,成立于2019年,位于武汉市,是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,玄武石半导体(武汉)有限公司共对外投资了1家企业,财产线条,此外企业还拥有行政许可1个。
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